本機是中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所發(fā)揮微細加工光刻設備研制技術(shù)優(yōu)勢，據市場(chǎng)需求開(kāi)展創(chuàng )新應用研制成功的一種新型深紫外（365nm）光刻設備。具有分辨率高，套刻準，線(xiàn)條陡直，線(xiàn)條高寬比大，曝光速度快，自動(dòng)化程度和可靠性高等特點(diǎn)。微電子，微光學(xué)、微機械系統、MEMS、紅外器件、光學(xué)分刻板、生物芯片、準LIGA及聲表面波等器件的研制和生產(chǎn)深層光刻中具有突出的功能和用途。采用微機控制，光學(xué)系統采用特殊的消衍射和線(xiàn)條陡直增強技術(shù)及曝光均勻性和能量自動(dòng)檢測系統等。