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    科技成果

    Achivements

    SOICMOS器件電離總劑量輻射損傷規律研究

    來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2016-04-06

    SOICMOS器件電離總劑量輻射損傷規律研究是為我國國產(chǎn)抗輻射加固超大規模集成電路研制服務(wù)的基礎研究項目。通過(guò)利用新疆理化技術(shù)研究所眾多輻射源開(kāi)展國產(chǎn)SOI材料、器件、抗輻射加固電路等的損傷規律研究。為國產(chǎn)抗輻射加固SOI材料、抗輻射加固SOICMOS提供考核及評估方法具有很強的實(shí)用性。為國產(chǎn)抗輻射加固集成電路的產(chǎn)業(yè)化奠定堅實(shí)的基礎。

    聯(lián)系方式:中國科學(xué)院上海微系統與信息技術(shù)研究所 聯(lián)系人:張正選
    電話(huà):62511070-8508 郵箱:Zxzhang@mail.sim.ac.cn

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